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金屬磁控鍍膜的相關知識普及

更新時間:2025-07-08點擊次數:49
  金屬磁控鍍膜質量高,膜層組織細密,粗大的顆粒少,相比電弧離子鍍膜,其膜層質量更高。并且膜層與基材的結合力強,優于真空蒸發鍍膜,因為磁控濺射鍍膜技術中膜層粒子的能量較高,能夠在基材表面形成更牢固的結合;可以制備多種材料的薄膜,包括金屬、合金、氧化物、氮化物等,滿足不同領域對不同材料薄膜的需求。
 
  由于磁場的作用,等離子體的穩定性得到提高,使得鍍膜過程更加穩定,有利于獲得均勻、致密的薄膜;通過調整工藝參數,如電壓、電流、氣體流量、磁場強度等,可以準確控制薄膜的厚度、成分、結構和性能,實現對薄膜質量和性能的精細調控;不僅適用于平面基材的鍍膜,還可以對復雜形狀的工件進行鍍膜,且能夠保持較好的膜層均勻性。
 
  金屬磁控鍍膜的測定步驟:
 
  1.準備工作:
 
  -清潔基片:將基片放入乙醇、丙酮等有機溶劑中進行超聲波清洗,去除表面的油污和雜質,然后用去離子水沖洗干凈,用氮氣吹干。
 
  -安裝基片:將清潔好的基片固定在鍍膜機的基片架上,確保基片與靶材之間的位置合適,且基片表面平整、無傾斜。
 
  -檢查設備:檢查磁控鍍膜設備的真空系統、電源系統、控制系統等是否正常工作,確保各部件連接牢固,無松動或泄漏現象。
 
  2.鍍膜過程:
 
  -抽真空:啟動真空系統,將鍍膜室的真空度抽至所需的本底真空度,一般要求達到較高的真空度,以保證鍍膜的質量。
 
  -設定參數:根據鍍膜的要求,設定磁控濺射的工藝參數,包括濺射功率、濺射電壓、濺射電流、工作氣壓、氣體流量等。不同的金屬靶材和基片材料,需要選擇不同的工藝參數。
 
  -預熱靶材:在開始濺射之前,對靶材進行預熱處理,以提高靶材的濺射效率和鍍膜的均勻性。
 
  -開始濺射:打開濺射電源,開始磁控濺射過程。在濺射過程中,要密切關注設備的運行狀態,如真空度、濺射電流、濺射電壓等參數的變化,確保鍍膜過程的穩定性。
 
  3.后處理:
 
  -冷卻降溫:鍍膜完成后,關閉濺射電源,讓鍍膜室自然冷卻至室溫。在冷卻過程中,要保持真空狀態,以防止薄膜氧化。
 
  -取出基片:當鍍膜室冷卻至室溫后,緩慢放入大氣,取出鍍好的基片。
 
  -測量表征:對鍍好的薄膜進行各種性能測試和表征,如厚度測量、附著力測試、光學性能測試、電學性能測試等,以評估鍍膜的質量。
金屬磁控鍍膜
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